掩膜版的未来发展趋势是什么？

    从全球电子产业迁移情况，看上游规范物料掩膜版的开展与需求，掩膜版用于下游电子元器件制造业批量消费，是下游行业消费流程衔接的关键局部，是下游产品精度和质量的决议要素之一。

    产品主要应用于平板显现、半导体芯片、触控、电路板等行业，是下游行业产品制程中的关键工具。掩膜版的功用相似于传统照相机的“底片”。消费加工时依据客户所需求的图形，用光刻机在原资料上光刻出相应的图形，将不需求的金属层和胶层洗去，即得到掩膜版产废品。

    掩膜版的原资料掩膜版基板是制造微细光掩膜图形的感光空白板。经过光刻制版工艺，将微米级和纳米级的精密图案刻制于掩膜版基板上制造成掩膜版。掩膜版对下游行业消费线的作用主要表现为应用掩膜版上已设计好的图案，经过透光与非透光的方式停止图像（电路图形）复制，从而完成批量消费。

    掩膜版产品依据基板材质的不同主要可分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他（包含凸版、菲林）。

    消费工艺流程：

    消费制造的中心工序包括光刻、清洗、显影、蚀刻、检查、修补、贴

    膜等环节，其技术程度主要表现在：图形设计处置、光刻工序工艺、显影蚀刻工序工艺、丈量和检查剖析技术、缺陷控制与修补、干净室建立等方面。

    （1）图形设计：收到客户图形后，经过专业设计软件对客户的图形做二次编辑处置与检查。

    （2）图形转换：将客户请求的幅员设计数据分层，运算。再依照相应的工艺参数将文件格式转换为光刻设备专用的数据方式。

    （3）图形光刻：经过光刻机停止激光光束直写完成客户图形曝光。掩膜版制造都是采用正性光刻胶，经过激光作用使需求曝光区域的光刻胶内部发作交联反响，从而产生性能改动。

    （4）显影：将曝光完成后的掩膜版显影，以便停止蚀刻。在显影液的作用下，经过激光曝光区域的光刻胶会溶解，而未曝光区域则会保存并继续维护铬膜。

    （5）蚀刻：对铬层停止蚀刻，保存图形。在蚀刻液的作用下，没有光刻胶维护的区域会被腐蚀溶解，而有光刻胶维护的区域的铬膜则会保存。

    （6）脱膜：光刻胶的维护功用曾经完成，脱膜工序经过脱膜液去除多余光刻胶。

    （7）清洗：将掩膜版正、背面的污染物清洗洁净，为缺陷检验做准备。

    （8）尺寸丈量：依照质量协议对掩膜版关键尺寸（CD精度）和图形位置

    （TP精度）停止丈量，断定尺寸的精确水平。

    （9）缺陷检查：对照客户技术/质量指标检测掩膜版制版过程产生的缺陷并记载坐标及相关信息。掩膜版的根本检查主要有：基板、称号、版别、图形、排列、膜层关系、伤痕、图形边缘、微小尺寸、绝对尺寸、缺陷检查等。

    （10）缺陷修补：对检验发现缺陷停止修补。修补包括对丧失的细微铬膜停止LCVD堆积补正以及对多余的铬膜停止激光切除等。

    （11）清洗：再次清洗为贴合掩膜版Pellicle做准备。

    （12）贴膜：将Pellicle贴合在掩膜版之上，降低下游客户制造过程中灰尘形成的不良率。

    （13）检查：对掩膜版作最后检测工作，以确保掩膜版契合质量指标。

    （14）出货：对掩膜版停止包装，然后发货。

    掩膜版的主要原资料为掩膜版基板。同时，随着掩膜版行业下游客户对其终末产品的质量请求不时进步，促使掩膜版企业不时追求产品质量上的打破，而掩膜版基板的质量，对掩膜版产品质量具有严重影响。

    因而，从降低原资料采购本钱和控制终端产质量量动身，掩膜版行业中主产厂家陆续向上游行业延伸，局部企业曾经具备了研磨、抛光、镀铬、涂胶等掩膜版基板全产业链的消费才能，这不只能够有效降低原资料的采购本钱，而且可以有效提升掩膜版产质量量。将来掩膜版行业内具有一定实力的企业，将逐渐向上游产业链拓展。